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湖州维德光电科技有限公司展出第三代半导体材料GaAs、SiC、GaN所用石英反应腔体

      材料来源:SEMI中国

展位号:E5-5112

自主研发各类单片机、多片砷化镓GaAs、碳化硅SiC、氮化镓GaN衬底生长的石英反应腔体,从早期垂直生长反应腔,到目前横向生长反应腔体,以及各类混合气体石英喷头。


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