Novaled开发出空气稳定的新型n型掺杂剂与ETL材料
Novaled开发出空气稳定的新型n型掺杂剂与ETL材料,用于改善OLED电视与移动显示器的效率和寿命...
应用材料公司推出单硅片大电流离子注入系统
应用材料公司推出半导体业界最先进的单硅片大电流离子注入系统——全新的Applied Varian VIISta®...
8吋硅上氮化镓芯片成功研发
LED照明技术与解决方案的研发与制造领导厂商Bridgelux 公司,以及全球领导半导体制造商Toshiba...
台晶体硅厂商旭晶发布高效多晶和准单晶硅片
台湾太阳能晶硅制造商旭晶日前发布新款高效多晶硅硅片“E-Wafer”以及准单晶产品。采用“E-Wafer”...
欧司朗成功在硅衬底上制出GaN LED芯片
欧司朗光电半导体公司的研究人员经过研究,现已成功在硅衬底上生产出了氮化镓LED芯片...
三星电子开发出比半导体快100倍的元件
三星电子成功开发出可生产比原有半导体芯片速度快百倍以上的芯片的新型基础元件。这就是以号称...
RFMD 推出最新氮化镓工艺技术
RFMD 推出的最新氮化镓工艺技术 – rGaN-HV™ -- 可在功率转换应用(1 至 50 KW)中大幅度降低...
Brewer Science 发布化合物半导体工艺设备
Brewer Science公司于近日发布有关于薄膜晶圆分离与后脱胶清洗的晶圆工艺设备,这些关键设备都...
中微推出用于3D芯片及封装的硅通孔刻蚀设备Primo TSV200E
中微半导体设备有限公司推出了8英寸硅通孔(TSV)刻蚀设备Primo TSV200E™ -- 该设备结构紧凑且...
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