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中微第100台MOCVD Prismo A7 反应腔付运

     

 中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)日前宣布,中微金属有机化合物气相沉积(MOCVD)设备Prismo A7™ 反应腔交付量突破100台,这是自去年中微MOCVD设备Prismo A7™第一次推向市场以来的一个重要里程碑。Prismo A7™是中微第二代MOCVD设备,主要用来进行氮化镓LED外延加工以及其他应用。每台Prismo A7™ 设备可容纳多达4个反应腔, 每个反应腔的产量是中微第一代MOCVD设备Prismo D-BLUE®的2倍多。

目前中微的MOCVD设备已在国内领先的生产线上进行大规模量产,它们是全球大部分LED芯片的生产制造商,包括三安光电华灿光电。中微自从正式发布MOCVD 设备Prismo A7™以来,不断地接到了新的订单和重复订单,销售势头迅猛。预计截至今年年底,中微将付运近120台MOCVD反应腔。

三安光电副董事长兼总经理林科闯称,中微的MOCVD设备对三安的LED生产制造做出了很大的贡献。他指出:“中微的MOCVD设备具有优异的工艺性能、较高的生产效率和较低的运营成本,我们和中微一起合作以满足先进技术的要求。此外,由于中微是一家本土知名的微观加工高端设备公司,我们能够较便利地获得中微丰富的技术支持和现场快速响应支持。我们很高兴和中微合作。”

中微资深副总裁、首席运营官兼MOCVD产品事业群总经理杜志游博士说:“我们感到很荣幸,能够为我们尊贵的客户提供可靠、可信赖的国产MOCVD设备,以满足他们对于MOCVD这一关键设备的技术要求。我们致力于通过不断创新并为其生产线提供新的解决方案来帮助他们优化LED性能并降低生产成本。我们非常感谢和他们的业务合作。”

Prismo A7™: 为LED超高产能而设计

中微MOCVD设备Prismo A7™研发的重中之重在于帮助客户优化LED性能并降低基于氮化镓LED的生产成本。中微在设计机台时始终都致力于满足日益严格的生产要求,紧凑的占地面积是中微机台设计中的一个特色,独特的配置使中微的MOCVD设备可容纳多达4个反应腔,同时加工136片4英寸外延晶片,并且每个反应腔都可以独立控制。

为进一步达到优化性能、提高产量并降低生产成本的目标,中微在反应腔设计时特别关注氮化镓外延的关键工艺要求。这些要求包括:

优异的工艺均匀性:中微通过多区气体注入系统、具有独特设计的气体分配注入器和多区供热系统,达到优异的均匀性;

较高的设备可靠性:中微的MOCVD设备使用了具有独立自主知识产权的业内认可的操作软件,以及成熟的自动化控制系统。在设计、集成和测试中都遵循且符合SEMI标准,这些都使得中微的MOCVD设备具有较高的设备可靠性;

卓越的工艺重复性:中微拥有独立自主知识产权的特殊边缘吹扫设计,以减少喷淋头上的颗粒生成,使得中微MOCVD设备具有卓越的重复性;

简便的操作性:中微的MOCVD设备采用了具有全自动化、可编程的反应腔开关系统,以及为更换MO源鼓泡器而定制化设计的真空管路,使中微MOCVD设备在连续加工过程中不需要开腔清洗或维修。这一优势大大提高了中微MOCVD设备的利用率。

中微MOCVD设备Prismo A7™已在中国大陆、台湾、日本、韩国和美国等国家和地区申请专利155项(包括授权和未授权),它们是中微1000多项专利中的重要组成部分。

Prismo A7™是中微公司已申请的注册商标。

 

中微半导体设备(上海)有限公司

中微公司致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微通过创新驱动自主研发的等离子体刻蚀设备和硅通孔刻蚀设备已在国际主要芯片制造和封测厂商的生产线上广泛应用于45纳米到7纳米及更先进的加工工艺和最先进的封装工艺。目前,正在亚洲地区30多条国际领先的生产线上运行的中微反应台(包括介质刻蚀、TSV和MOCVD)已超过600个。中微开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备也已在客户生产线投入量产。

更多信息请访问公司网站:www.amec-inc.com


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