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Picosun ALD 提供破纪录的薄膜质量

      材料来源:化合物半导体杂志

针对半导体、显示器和物联网器件生产线,Sprinter ALD系统进行了优化


Picosun宣布,它已成功对其 Sprinter ALD系统工艺做了进一步优化,以用于半导体、显示器和物联网器件生产线。

 

对于Al2O3工艺,Picosun表示,即使在90℃的低沉积温度下,其结果也显示出出色的厚度均匀性。在300℃时,在晶圆内测量的结果达到了破纪录的水平(<0.2% 1sigma)。

 

此外,该团队还继续改进工艺性能的其他部分。生产能力在过去两个月中增加了一倍多,生产周期时间则减少到8秒,而且没有任何均匀性下降。

 

其他示例包括 SiO2工艺结果,该结果表明,在300-390℃下,生产线后端兼容热式SiO2 ALD工艺具有均匀的薄膜。

 

Picosun集团工业业务领域副总裁Juhana Kostamo说:“Picosun集团于2020年12月推出了Sprinter,用于300毫米晶圆的快速批量ALD工具。我们希望为快速批量加工带来单晶圆薄膜的质量和均匀性,并迎接大批量 ALD 制造的挑战。我们的解决方案在市场上引起了浓厚的兴趣,我们已经向客户交付了一些Sprinter ALD系统。”


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