Picosun ALD 提供破纪录的薄膜质量

Picosun宣布，它已成功对其 Sprinter ALD系统工艺做了进一步优化，以用于半导体、显示器和物联网器件生产线。

对于Al₂O₃工艺，Picosun表示，即使在90℃的低沉积温度下，其结果也显示出出色的厚度均匀性。在300℃时，在晶圆内测量的结果达到了破纪录的水平（<0.2% 1sigma）。

此外，该团队还继续改进工艺性能的其他部分。生产能力在过去两个月中增加了一倍多，生产周期时间则减少到8秒，而且没有任何均匀性下降。

其他示例包括 SiO₂工艺结果，该结果表明，在300-390℃下，生产线后端兼容热式SiO₂ ALD工艺具有均匀的薄膜。

Picosun集团工业业务领域副总裁Juhana Kostamo说：“Picosun集团于2020年12月推出了Sprinter，用于300毫米晶圆的快速批量ALD工具。我们希望为快速批量加工带来单晶圆薄膜的质量和均匀性，并迎接大批量 ALD 制造的挑战。我们的解决方案在市场上引起了浓厚的兴趣，我们已经向客户交付了一些Sprinter ALD系统。”