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技术
技术 | Technology – III-V与硅集成 | Technology – III-V与硅集成
通过纳米脊形获得优势
使用纵横比捕获（Aspect Ratio Trapping, ART）技术
能够在硅衬底上制造出纳米脊形的激光器。
Bernardette Kunert, Robert Langer, Marianna Pantouvaki, Joris Van Campenhout; IMEC
Dries Van Thourhout, 比利时根特大学
18 化合物半导体 www.compoundsemiconductorchina.net.compoundsemiconductorchina.net
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化合物半导体 2019年第1期 2019年第1期
