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Trident太阳能为晶硅前表面推出非接触式喷墨式选择性发射极解决方案

2011-9-15     

Trident太阳能日前在EU PVSEC展会上面向全球推出了可应用于太阳能前表面(晶硅)喷墨式选择性发射极的新款单步“VersaEtch”蚀刻/n型掺杂材料。通过与Trident太阳能的256Jet-S喷头配合使用,新款VersaEtch蚀刻/n型掺杂材料据称可与其他选择性发射极方式的电池效率(0.5-1.0%)以及精准的掺杂性能(50微米印刷效果)相媲美,并可凭借其非接触、单步工艺和成本效率等特性提供额外的优势。使用VersaEtch进行的喷墨掺杂和蚀刻据称可与丝网印刷或电镀金属触点组成混合工具进行使用。

      据Trident太阳能公司表示,太阳能制造商期望能够获得一种单步、非接触式的操作工艺,并可通过对氮化硅的ARC层进行蚀刻并对硅发射极进行扩散性掺杂而获得更高效率的前接触面。能够将金属化工艺与蚀刻/扩散工艺分离开来的选择性发射极技术具有将两方面性能最大化的潜力。

      解决方案:蚀刻材料可通过Trident 256Jet-S喷头喷出并在350°C的温度下对氮化硅ARC层进行蚀刻。当温度达到800°C时,n型掺杂将扩散至硅活性发射极。完成所有步骤所需的仅为一步后期水洗工艺。与丝网蚀刻或激光蚀刻等传统的接触式选择性发射极工艺相比,在非接触工艺中使用VersaEtch蚀刻/n型掺杂被认为可实现节省十倍级的硅料费损。费损率目前在0.5-1.0%的范围内,使用此工艺可将其降低至0.1%。目前所展示的蚀刻/n型掺杂材料是通过喷头进行取用的,但是其他的相关应用工具也同样在研发过程当中,其中包括晶硅应用工具如作为种子层的喷射钯,以及波按摩应用工具如碱性蚀刻的喷射等。Trident公司同时还正在开发可用于晶硅和薄膜工艺中的喷墨沉积扩散屏障。

      产品应用:本品可通过对氮化硅ARC层进行蚀刻并对硅发射极进行扩散掺杂而在单步、非接触式前接触面上进行应用。

      相关应用:Trident 256Jet-S工业用喷头是专为太阳能应用设备而设计。这种喷头由具有化学惰性的不锈钢材质制成,并具有可修复式设计,其喷嘴可进行拆卸、超声波清洁并重新组装。公司表示,这些特性使得这款喷嘴的使用时间要比其他喷嘴延长五倍。新的解决方案由Alpha PV Technologies公司作为与Trident太阳能公司合作的一步分而进行研发并制造(正在申请专利)。

      来源:PV Tech


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