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网络研讨会:VCSEL应用前景以及面临的工艺挑战

2021/1/5 20:24:16      材料来源:化合物半导体杂志

 
2021.1.19
    (星期二14:00——17:00)

    VCSEL(Vertical-cavitySurface-emittingLaser)垂直腔面发射激光器,因其圆形光斑易于与光纤耦合,垂直发射易于制备二维阵列,阈值电流小功耗低,腔长短易于单纵模出射和易于实现高调制频率等优点,广泛应用在手机、智能门锁、扫地机器人等消费电子市场,以及高速光通信、生物医学、工业、汽车电子产品等的光学传感中。根据市场分析人士提供的数字,仅3D传感市场的全球营销收入将从2017年的21亿美元大幅攀升至2023年的185亿美元。这44%的复合总增长率,将有助于刺激VCSEL的销售。到2023年,仅VCSEL光源和相关光学器件的市场就将超过60亿美元。5G时代驱动光通信行业及消费电子终端的快速发展,5G基站网络结构的变化增加对光模块的需求,VCSEL激光器是光模块的关键光电器件,产能有望扩张。人脸识别在手机等智能终端的普及、飞行时间传感在自动驾驶中逐步推广必将为VCSEL激光器迎来更广阔的市场机遇。  

    报名截止:1月18日

会议议程
  
  讲师介绍

 Ryan博士
    联合创始人
    常州纵慧芯光半导体科技有限公司
    演讲主题:
    面向3D传感应用的新一代VCSEL芯片
    演讲摘要:
    VCSEL在3D传感领域有诸多应用,包括消费电子领域的人脸识别,3D建模等,以及汽车电子应用的LiDAR等。这里介绍面向3D传感的传统VCSEL产品及技术的发展状况,以及具有更高功率密度,适用更远探测距离的新一代VCSEL产品,技术及应用。
 
 
    黃承杨博士
    技术经理
    牛津仪器公司
    演讲主题:
    垂直共振腔面射型激光(VCSEL)的蚀刻和沉积解决方案
    演讲摘要:
    演讲主要探讨制造先进垂直共振腔面射型激光(VCSEL)的刻蚀和相关薄膜沉积的解决方案。演讲从光通信(datacom)与3D感测(3Dsensor)市场切入,展开讨论的最新的工艺成果。OIPT在ICP刻蚀和PECVD沉积方面的丰富经验积累,对未来5-10年VCSEL器件市场提出完整的刻蚀与沉积解决方案,重点讨论目前应用较广的几项工艺,包含GaAs的刻蚀,斜向InP刻蚀,光电组件所需的钝化层刻蚀,与薄膜沉积技术,针对提升器件品质和良率的工艺优化,常见刻蚀工艺问题的解决,以及终点检测技术对于工艺重复度的帮助。
    
    佟存柱博士
    常务副主任/研究员
    中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
    演讲主题:
    高速光互连面发射激光技术进展
    演讲摘要:
    演讲主要介绍光互连面发射激光技术的最新进展,包括VCSEL、GCSEL和PCSEL技术。重点围绕带宽限制、波长拓展、传输距离延长等几个方面阐述目前国际上高速面发射激光技术发展所面临的挑战、发展趋势等。
 
    邓丽刚博士
    产品经理
    牛津仪器公司
    嘉宾介绍:
    邓丽刚博士本科就读于湖南湘潭大学物理专业,并于2000年在英国Glasgow大学获得半导体物理方向的博士学位,主要研究等离子刻蚀对半导体器件的损伤。毕业之后,加入牛津仪器等离子技术公司成为工艺工程师,2007年成为主任工程师。在牛津仪器的近20年的时间里,邓丽刚博士主持研发了所有与制作各种光电子器件有关的III-V半导体化合物材料的刻蚀工艺。目前她是公司负责面向三维传感和数据通信相关市场的产品经理。
   
    陆敏博士
    研究员秘书长主编
    宽禁带半导体联盟《化合物半导体》
    嘉宾介绍:
    陆敏博士,研究员,《化合物半导体》主编,宽禁带半导体联盟秘书长。从事化合物半导体领域工作及研究25年,策划并成功组织2届APCSCRM国际会议;SEMI中国化合物半导体标委会核心委员,国家半导体材料标委会委员,成功组建宽禁带半导体技术团体标准标委会,共发布实施12项团标。对宽禁带半导体材料的生长、器件制备技术及半导体技术标准化有丰富的经验。近年来承担或参与了多项国家发改委、工信部、科技部重点研究计划、863、973和国家自然科学基金等科技及产业化项目。在国内外学术期刊上共发表论文40余篇,申请国内发明专利13项,授权11项,起草并发布国际标准1项,国家标准1项,团体标准10项。
   
关于牛津仪器

   

    牛津仪器1959年创建于英国牛津,是英国伦敦证交所的上市公司,为工业和科研客户提供分析设备、半导体设备、超导磁体、超低温设备等高科技解决方案及相关服务和支持。目前牛津仪器现已成为科学仪器领域的跨国集团公司,生产基地、销售服务网络和客户遍及一百多个国家和地区,目前在上海设有销售、研发和全国售后服务中心,在北京、广州设有办事处,旨在为广大中国用户提供及时、有效的服务。牛津仪器等离子体技术公司提供专业的刻蚀和沉积工艺解决方案,这些解决方案基于等离子体,离子束,以及原子层沉积与刻蚀的诸多核心技术。其产品范围覆盖了从高产能的集簇式cassette-to-cassette工业化平台到专为R&D而设计的紧凑型分立式设备。


    Plasmapro100系列ICP电感耦合刻蚀机,RIE刻蚀机,Ionfab离子束刻蚀沉积,PECVD等离子加强型介质沉积,ICPCVD电感耦合等离子加强型介质沉积以及ALD原子层沉积

    随着5G技术的不断发展和普及,频谱,容量以及传输速率这几大因素决定了如何有效承载整个5G网络。而作为第三代半导体衬底材料之一的磷化铟因其优于其他半导体材料的频率特性在5G,以及超晶格红外探测等领域都得到了充分的应用。万物互联需要使用光纤实现超高速数据传输,而使用了磷化铟材料制造的激光器发出的光在光纤中可实现无损耗传输,从而保证的数据的高速和有效性。牛津仪器等离子体作为有着60年半导体设备生产经验的英国厂商,为化合物半导体器件前段制造领域提供完善的刻蚀以及薄膜沉积的解决方案。牛津仪器等离子体的刻蚀设备在行业内第一家通过4寸磷化铟边发射激光器量产验证,其ICP以及RIE刻蚀设备如今被广泛使用于光通讯以及数据通讯中使用的半导体接收器的制造,比如周期光栅,光脊,平台以及介质层的刻蚀。除了作为有源器件的边发射激光器,其制造过程中的绝缘以及侧面保护也非常重要,所以牛津仪器等离子体还为用户度身定制了先进的介质薄膜沉积设备包括PECVD,ICPCVD,IBD以及ALD。用户可以结合自身需求选择最适合的刻蚀以及沉积配套设备来实现高性能,高良率,高信赖性的器件生产。

    报名截止:1月18日

    会议咨询

    熊芳AndyXiong
    13554899028
    andyx@actintl.com.hk

    陈燕SkyChen
    13723739991
    skyc@actintl.com.hk
 
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