显而易见,当今的氧化镓MOSFET仍处于技术成熟度的早期阶段。阈值电压往往落在零的错误一侧(即常开耗尽型),亚阈值摆幅远高于热力学极限,而已发表的可靠性数据也十分匮乏。然而,这些现象中没有一个是根本性的"拦路虎"。相反,它们反映的是一项新兴的MOS技术:沟道材料研发的进度,超过了界面与栅堆叠工艺精细化的进度。
显而易见,当今的氧化镓MOSFET仍处于技术成熟度的早期阶段。阈值电压往往落在零的错误一侧(即常开耗尽型),亚阈值摆幅远高于热力学极限,而已发表的可靠性数据也十分匮乏。然而,这些现象中没有一个是根本性的"拦路虎"。相反,它们反映的是一项新兴的MOS技术:沟道材料研发的进度,超过了界面与栅堆叠工艺精细化的进度。