本期内容
2026年8/9月刊
封面故事 Cover Story
氧化镓MOSFET: 
界面为何至关重要
Gallium oxide MOSFETs: Why interfaces matter
格拉斯哥大学 伊恩·塞恩
编者话 Editorial
从"价格血战"到"AI抢滩": 
2026年碳化硅行业生死转折
From Price Bloodbath to AI Land Grab: Silicon Carbide's Do-or-Die Inflection Point in 2026
陆敏
业界动态 Industry
欧盟批准向Element 3-5碳化硅工厂提供3.53亿欧元资助
EU approves �353 million for Element 3-5 SiC facility
Navitas首席执行官对专利诉讼作出强硬回应
Navitas CEO makes robust response to patent lawsuits
IVWorks 的 reGaN 技术成就全球首款742 GHz GaN HEMT
IVWorks reGaN tech enables World’s first 742 GHz GaN HEMT
35亿元 中微公司拟投建临港产业化基地二期项目
AMEC to Invest RMB 3.5 Billion in Phase II of Lingang Industrial Base
加码碳化硅!Clas‑SiC拿下190万英镑政府资助,1200万英镑扩产加速
Clas-SiC Wafer Fab gets £1.9m grant
军用氮化镓重大进展!解决发热痛点,射频装备探测距离或将暴涨
BAE moves to next phase of DARPA GaN project
Aeluma获3000万美元《芯片法案》资金支持,推进面向AI数据中心的非磷化铟大尺寸衬底技术
Aeluma to get $30m in CHIPS funding
技术 Technology
有效激发助力n型AlN
Efficacious excitation aids n-type AlN
Agnitron Technology公司 FIKADU ALEMA、WILLIAM BRAND、VITALI SOUKHOVEEV、AARON FINE、ANDREI OSINSKY
我们电子芯片之下的静默战争
The quiet war beneath our electronic chips
谢菲尔德大学SC LENNY KOH、卡迪夫大学PETER SMOWTON,两人均来自UKRI COMPOUND SEMICONDUCTOR HUB
双向开关的突破
A breakthrough for the bidirectional switch
中国科学技术大学 YUAN QIN、西安电子科技大学 MING XIAO、苏州能讯高能半导体(Enkris Semiconductor)KAI CHENG、香港大学 YUHAO ZHANG
AI加速功率设计
AI accelerates power design
中国科学院上海微系统与信息技术研究所 LI ZHENG、XINHONG CHENG及其同事
飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)分析技术在半导体芯片材料/缺陷表征及工艺制程优化中的研究与应用(连载一)
Studies and Applications of Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS) Analysis Technique in Semiconductor Chip Material/Defect characterization and Process Optimization (Part 1 of a Series)
华佑南,朱雷,赵弇斐,李晓旻,胜科纳米(苏州)股份有限公司;郭茹,方浩原,李雯琪,高聚宁,北京艾飞拓科技有限公司
科技前沿 Research Review
蓝宝石基AlGaN HEMT的新标杆
A new benchmark for AlGaN-on-sapphire HEMTs
铽掺杂AlGaN瞄准microLED显示
Terbium-dopedAlGaN eyes microLED displays
前驱体调制量子阱提升UVA LED效率
Precursor-modulated wells boost the efficiency of UVA LEDs
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