宾夕法尼亚州立大学安装 Samco 表面处理解决方案

美国大学 nanofab 使用 Aqua Plasma 型号 AQ-2000 和桌面紫外线臭氧清洁系统对包括二维半导体在内的基板进行表面改性

蚀刻、沉积和表面处理加工设备制造商 Samco 宣布，宾夕法尼亚州立大学材料研究所 (Penn State MRI Nanofab) 的纳米制造实验室选择了一套互补的表面处理解决方案，包括 Aqua Plasma 清洁系统和紫外线臭氧清洁系统。

Penn State MRI Nanofab 是北美领先的纳米技术研究/开发和原型制造设施之一，它选择了Samco的AQ-2000型水基等离子体处理系统Aqua-plasma和UV-2型桌面紫外臭氧清洗系统对包括2D半导体材料的基板进行表面改性。它们作为纳米制造的开放用户设施与学术、工业和政府用户合作。

Aqua Plasma 旨在有效和安全地还原金属氧化物，提高基材之间的粘合强度，增强亲水性，可用于灰化或有机物去除应用。这种独特的表面处理技术不仅有效，而且对环境和操作人员也是安全的。

宾夕法尼亚州立大学 NF Nanofab 运营总监 Chad Eichfeld 表示：“AQ-2000 的灵活性将对宾夕法尼亚州立大学的材料研究界产生长期影响，因为它允许以更坚固的方式处理各种材料。和高效的工艺流程。随着对二维材料制成的器件的研究不断深入，需要具有低损伤和减少表面氧化的等离子蚀刻技术。

“AQ 2000 是一种独特的工具，可以同时进行氧气和水基等离子体处理，它的独特之处在于它消除了表面氧化，这是系统选择的主要驱动因素。在发送我们的一些二维材料样本后，我们发现等离子还具有减少材料表面损伤的额外好处。我们决定的另一个关键因素是具有多种等离子技术的灵活性：在同一系统中使用下游等离子、等离子蚀刻和 RIE 蚀刻。将这些功能捆绑到单个系统中，将使我们能够优化我们的功能，同时减少我们洁净室的设备占地面积。”Samco 总裁兼首席运营官 Tsukasa Kawabe 表示：“凭借我们尖端的表面处理技术、Aqua Plasma 和 UV 臭氧清洁，我们为世界领先的研究机构提供了令人信服的解决方案。三十多年来，Samco 一直致力于“为美国的大学和研发机构提供等离子体处理解决方案。我们为宾夕法尼亚州立大学 Nanofab 现在选择我们的设备作为他们的开放实验室而感到非常自豪。”

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