联电推出55nm BCD特色工艺平台

据报道，日前，中国台湾地区晶圆代工企业联华电子宣布推出55nm BCD (Bipolar-CMOS-DMOS) 工艺平台。

据悉，联电的55nm BCD平台包含非外延/磊晶 (Non-EPI)、外延/磊晶 (EPI)、绝缘层上硅 (SOI) 三类制程，同时整合了UTM超厚金属层、eFLASH嵌入式闪存、RRAM忆阻器等技术。

这一特色制程能在单一芯片上集成模拟、数字与电力元件，广泛应用于电源管理与混合信号集成电路，可提升移动设备、消费电子、汽车工业应用产品的能效表现，并提供更小芯片面积与卓越抗噪声表现。

【杂志订阅】

首发专享，限时免费！《GaN》电子专刊第二期上线！立即扫码订阅：https://www.sbs-mag.com/subscribe_active.html?invitation_code=active202507&name=CSC