龙图光罩拟募资不超14.6亿元投向40-28nm半导体掩模版生产线建设

4月28日晚间，龙图光罩发布晚间公告称，公司拟向特定对象发行A股股票募集资金总额不超过14.6亿元（含本数），扣除发行费用后的净额将全部用于40nm-28nm半导体掩模版生产线建设项目。

公告显示，该项目建设单位为龙图光罩全资子公司珠海市龙图光罩科技有限公司，拟投资约19.54亿元，用于建设厂房及其他配套设施，并购置先进的电子束光刻机、干法蚀刻机、无酸清洗设备、高端量检测设备、模拟曝光设备和高端修补设备等。项目建设周期为36个月，拟通过建立高端半导体掩模版生产线，实现40nm-28nm工艺节点半导体掩模版的量产。

项目建成达产后，公司将新增每年稳定产出15,000片半导体掩模版；在产品结构上，除现有的二元掩模版和相移掩模版外，增加更高制程的KrF-PSM、ArF-PSM以及OMOG掩模版产品，更好地满足客户需求。

龙图光罩表示，40nm-28nm制程产品的布局不仅是公司前次募投项目的扩建与延续，更是公司保持行业地位、巩固市场竞争力的必经之路。目前公司已实现90nm制程节点产品的量产出货，65nm产品也已开始送样验证，随着中国大陆半导体产业的快速发展，晶圆制造制程节点不断提升，公司需要提前布局更高制程节点产品才能保持自身技术进步与产品领先，满足境内晶圆制造厂商的日益增长的光罩需求。

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