行业新闻详细内容

ASML和IMEC启用联合High-NA EUV光刻实验室

2024/6/4 9:34:27      材料来源:ASML官网

自ASML官网获悉,近日,比利时微电子研究中心(imec)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab),由ASML和imec共同运营。
声明中称,经过多年的构建和集成,该实验室已准备好为领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供第一台原型高数值孔径EUV扫描仪(TWINSCAN EXE:5000)以及周围的处理和计量工具。
据悉,该联合实验室的开放是High-NA EUV大批量生产准备的一个里程碑,预计将在2025-2026年期间实现。通过向领先的逻辑和存储芯片制造商提供High-NA EUV原型扫描仪和周边工具(包括涂层和开发轨道,计量工具,晶圆和掩膜处理系统),imec和ASML支持他们降低技术风险,并在扫描仪在其生产晶圆厂中运行之前开发私有的High-NA EUV用例。此外,还将向更广泛的材料和设备供应商生态系统以及imec的高数值孔径图案化计划提供访问权限。
 
【2024全年计划】
隶属于ACT雅时国际商讯旗下的两本优秀杂志:《化合物半导体》&《半导体芯科技》2024年研讨会全年计划已出。
线上线下,共谋行业发展、产业进步!商机合作一览无余,欢迎您单击获取!
https://www.compoundsemiconductorchina.net/seminar/

上一篇:中新国际联合研究院和微... 下一篇:推进垂直GaN二极管的发...

声明:本网站部分文章转载自网络,转发仅为更大范围传播。 转载文章版权归原作者所有,如有异议,请联系我们修改或删除。联系邮箱:lynnw@actintl.com.hk